脉冲激光沉积ZnO薄膜的表面研究

摘要：

脉冲激光沉积技术（PLD）目前已成为一种重要的制备氧化锌（ZnO）薄膜的技术,但是由于脉冲瞬间沉积时不能避免产生液滴及形成大小不一的颗粒,因此在制备高质量ZnO薄膜的表面均匀性方面还存在一定弊端。文章采用PLD（KrF准分子激光器：波长248 nm,频率5 Hz,脉冲宽度20 ns）方法在衬底温度450℃和氧气流量10 sccm下以高纯ZnO为靶材、在单晶硅衬底表面沉积120 min成功生长了ZnO薄膜。扫描电子图像（SEM）显示ZnO薄膜表面有明显凸起的颗粒,文章通过俄歇能谱仪对ZnO薄膜进行了研究,分析了ZnO薄膜的表面成分及凸起颗粒微观区域的成分。实验结果表明制备的ZnO薄膜表面明显突起的颗粒为ZnO颗粒,文章为PLD法制备ZnO薄膜易形成大小不一的颗粒提供了理论依据。

关键词：脉冲激光沉积、ZnO薄膜、表面

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分类号：TH(机械、仪表工业)

资助基金：国家自然科学基金10674133 10604041;深圳市产学研科技合作Y2005002

在线出版日期：2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：1-2,25