半导体硅材料研磨液研究进展

摘要：

随着IC制造技术的飞速发展,为了增加IC芯片产量和降低单元制造成本,硅片逐渐趋于大直径化,然而为了满足IC封装的要求,芯片的厚度却在不断的减小.因此,对硅片加工的表面质量提出了更高的要求.文章详细说明了硅片研磨机理及工艺条件;重点阐述了在半导体硅片的研磨过程中研磨液的组成及各个组分的作用;并介绍了国内外研磨液的发展现状,指出了其优缺点;最后强调了研磨液开发的重要性.

关键词：研磨液、研磨、硅片、悬浮

所属期刊栏目：36

分类号：TQ(化学工业)

在线出版日期：2009-10-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：87-89