10.3969/j.issn.1007-1865.2007.04.004
氧化铝膜的制备
制备氧化铝膜的具体过程包括:预处理(清洗→退火→除去自然氧化铝膜→电化学抛光)、阳极氧化(稳流氧化→除膜→稳压氧化)和后续处理(稀磷酸扩孔).通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线电子衍射(XRD)、精密pH计和TT-230涡流测厚仪,对其进行了表征.研究了电解液浓度,氧化温度、电压、时间和扩孔时间对膜形成的影响.确定了新的氧化工艺,拓展了氧化温度的范围(15.0~40.0 ℃).制备出了具有高度有序的氧化铝模板.
纳米结构、阳极氧化铝、模板
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TQ13
国家自然科学基金10372087;湖南省科技厅科技计划03JZY1002
2007-05-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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