偏振激光照明对多层薄膜结构成像对比度影响

摘要：

光学多层干涉断层扫描技术(Optical multilayer interference tomography,OMLIT)应用于光电关联显微镜中以实现清晰的光学大视场成像,为高分辨率电镜图像提供目标区域标定.为了进一步提升成像对比度和定位精度,将偏振照明和OMLIT成像技术相结合,提出一种多层薄膜偏振照明的理论模型,使用矩阵传输方法对不同入射角的偏振光在不同材质、厚度的多层薄膜介质间的传播及干涉成像进行了仿真.结果表明,当照明光的电场振荡方向平行于入射面时,能够获得比非偏振光更高的图像对比度.当照明光以62°入射角照射金属银镀层样品表面,成像对比度提升高达138倍.这项工作为偏振照明OMLIT提供了理论基础,为光电融合显微成像技术的发展提供了全新的技术方案.

关键词：偏振成像、矩阵算法、多层薄膜、光学多层干涉断层扫描技术

所属期刊栏目：50

分类号：O436(光学)

资助基金：中国科学院战略性先导科技专项;苏州市创新创业领军人才

在线出版日期：2023-09-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共10页

页码：64-73