光刻投影物镜畸变检测中的位移测量误差分析

摘要：

在光刻投影物镜的畸变检测中,位移测量误差是光刻投影物镜畸变检测的重要误差源之一,深度分析误差源并减小误差项,可提高光刻投影物镜的畸变检测精度.本文将运动台的定位与测量技术相结合,着重分析利用夏克-哈特曼波前传感器对投影物镜进行畸变检测时像质检测台的位移测量误差.并以一套投影物镜像质检测台为例,对其在投影物镜畸变检测中的位移测量误差进行分析,利用该像质检测台对某一投影物镜进行畸变检测,畸变检测结果约80 nm,其中该像质检测台的位移测量误差会给畸变检测结果带来约22 nm的不确定度.

关键词：畸变检测、波前检测、位移测量、投影物镜

所属期刊栏目：50

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家重点研发计划;中国科学院青年创新促进会项目

在线出版日期：2023-03-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共14页

页码：87-100