超高精度面形干涉检测技术进展

摘要：

深紫外、极紫外光刻、先进光源等现代光学工程牵引驱动超精密光学技术持续发展,超精密光学制造要求与之精度相匹配的超高精度检测技术.作为核心技术指标之一的面形精度通常要求达到纳米、深亚纳米甚至几十皮米量级,超高精度面形干涉检测技术挑战技术极限,具有重要研究意义和应用价值.本文分析了面形干涉检测技术发展趋势,主要介绍了中国科学院光电技术研究所近年来在超高精度面形干涉检测技术相关研究进展.

关键词：先进光学制造、超精密光学、光学测量、面形检测、干涉检测、绝对检测

所属期刊栏目：47

分类号：TN247;TH741(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2020-09-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共13页

页码：14-26