纯相位匹配滤波模式识别在光刻对位系统中的应用

摘要：

针对光刻对准系统的微纳级对位精度,本文提出一种在图像相关识别的理论分析基础上,利用纯相位匹配滤波算法以及它所特有的相干峰高度旋转敏感特性而进行投影式光刻对准的新型套刻技术.该技术可求得在套刻过程中,掩模板和硅片基板对准标记的相对平移坐标与旋转坐标的量化驱动值,其对位精度与对位效率显著提高.通过实验数据证明了该理论的实验可靠性与有效性.

关键词：光刻、套刻对位、模式识别、纯相位匹配滤波器

所属期刊栏目：39

分类号：TN23;TN29(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金资助61107029、60977029;广东省创新实验资助项目HSZJ2011089

在线出版日期：2013-03-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：54-58