10.3969/j.issn.1003-501X.2011.08.024
新型SiC光学材料的制备及应用
随着空间成像技术的发展,当今各科技大国均加大了对新型光学材料的制备及应用的研究工作.近年来新近兴起的新型SiC材料因其良好的热稳定性、高比刚度、低密度、易于轻量化等优点,而成为未来空间相机主光学成像元件的首选材料.本文结合当前国内外SiC材料研究进展,介绍了新型SiC光学材料常用的几种制备技术及相关应用,对其制备方法和加工工艺进行了系统的阐述和总结,重点介绍了SiC材料与常规玻璃材料加工的不同之处,并对比了国内外的加工情况及我国目前SiC材料加工现状.从当前新型SiC加工情况看,SiC加工采用的数控光学加工技术CCOS大大提高了SiC材料的加工效率和加工精度,具有广阔的应用前景.
空间成像、SiC光学材料、制备及应用、数控光学加工技术
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TP394.1;TH691.9(计算技术、计算机技术)
国家863高技术研究发展资助项目2007AA12Z113
2012-01-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
145-150