用于纳米光刻的超分辨缩小成像平板超透镜研究

摘要：

本文提出和研究了利用超分辨缩小成像平板超透镜,在i线光源波长下实现纳米尺度光刻方法.为了在超 分辨透镜像面位置获得高质量的光刻图形,采用超分辨透镜-光刻胶-反射银膜的结构方式,解决由于超透镜磁场偏振传输模式带来的成像光场畸变问题,大大提高了成像质量和光场对比度.采用掩模图形结构预补偿的方法,消除超分辨透镜的倍率畸变像差影响.基于有限元电磁计算方法,教值模拟结果验证了该方法在i线光源波长下实现纳米尺度缩小戍像光刻的可能性.在i线(365nm)光源波长下,得到约35 nm线宽的高对比成像光场模拟结果,并分析了结构参数变化对成像光场带来的影响.

关键词：纳米光刻、超分辨成像、表面等离子体、超透镜

所属期刊栏目：38

分类号：TN29(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金项目60825405

在线出版日期：2011-09-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：35-39,45