10.3969/j.issn.1003-501X.2009.08.006
DNA-CTMA薄膜制备及其光电特性表征
采用离子交换法制取DNA-CTMA复合物,再通过自组装成膜法和旋涂法制备DNA-CTMA薄膜.通过DNA-CTMA薄膜在紫外/可见光/红外及远红外区的吸收光谱、薄膜的折射率与交流电阻的测量,研究了薄膜的光电特性.实验结果表明:DNA-CTMA薄膜的透光性很好,只在紫外230~315 nm区间和红外2.7 ~3.34μm区间出现吸收以及在红外3418nm和3504 nm两处有强吸收峰,在通信波段没有明显吸收.此外,分析了薄膜制备过程中,残留丁醇及制膜温度和干燥时间对薄膜折射率的影响.薄膜交流电阻的测量显示,50 bp短链的DNA-CTMA薄膜的交流电阻率比2 000 bp长链DNA-CTMA薄膜小2~3个数量级.
DNA、DNA-CTMA、吸收光谱、折射率、交流电阻率
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TN252;O484.4+1(光电子技术、激光技术)
浙江省钱江人才计划项目2007R10015;宁波市重点实验室开放基金2007A220 06资助课题
2009-10-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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