10.3969/j.issn.1003-501X.2009.02.013
193 nm移相点衍射干涉仪的测量误差分析
为了提高移相点衍射干涉仪对193 nm投影光刻系统的检测精度,本文对其主要测量误差进行了探讨.在简要介绍了193 nm移相点衍射干涉仪的基本结构和测量原理之后,总结了可能对测量结果产生影响的各种误差及其产生的原因.通过理论分析和数值模拟的方法分别对参考波前误差,相移误差、探测器非线性误差以及光源波动,环境变化引起的随机误差等进行了具体分析,从而得到各种测量误差的大小、存在形式以及与干涉仪结构参数的依赖关系,并提出了相应的避免或减小误差的方法.
干涉测量、移相点衍射干涉仪、光学检测、193nm投影光刻
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O439(光学)
2009-04-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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