多层薄膜光学常数的椭偏法研究

摘要：

研究了椭偏测量中多层薄膜拟和模型建立的过程,并对一未知多层光学薄膜进行了椭偏分析,建立了substrate/film1/EMA/film2/srough的物理结构模型.采用椭偏法,在首先确定出基底光学常数的基础上,提出了从单层、双层、三层逐次建模拟和的分析方法.研究结果表明:对于透明或弱吸收光学薄膜,采用柯西公式可以较好表征材料的色散关系.椭偏分析最终得到的未知薄膜基本结构为G(1.52)/2.0312(203.0 nm)1.4636(170.1 nm)2.079 1(170.4 nm)/A,膜系设计及分光光度计测量的透射光谱证实了这一结果.对多层膜厚度和光学常数的分析表明,椭偏法仍然是一种行之有效的薄膜光学常数测量方法.

关键词：薄膜、厚度、光学常数、椭偏测量

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分类号：O484.5(固体物理学)

资助基金：西安市科技创新支撑计划YF07051;陕西省科技计划项目2007K07-17

在线出版日期：2009-04-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：29-33