磁流变抛光驻留时间算法

摘要：

针对磁流变抛光去除量与驻留时间呈线性关系特点,本文以Preston方程为依据,根据磁流变抛光专用机床的运动形式,提出了基于矩阵的磁流变抛光驻留时间算法,该算法通过调整各点驻留时间控制光学器件表面的去除量,达到面形误差修正的目的,适用于非球面等可用通用光学方程表示的回转对称曲面.仿真实验结果表明,采用该算法仿真加工可以使球形表面面形误差收敛至十几个纳米.通过对K9光学玻璃球面进行的磁流变抛光实验,获得了表面粗糙度Ra0.636 nm的球形表面,面形精度P-V值由抛光前的158.219nm减小到52.14 nm,验证了驻留时间算法的合理性.

关键词：驻留时间、磁流变抛光、面形误差、矩阵

所属期刊栏目：36

分类号：TP273+.5(自动化技术及设备)

资助基金：黑龙江省博士后基金资助项目3236301111

在线出版日期：2009-03-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：114-119