粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响

摘要：

基于Nevot-Croce模型,计算了一系列具有粗糙界面的极紫外投影光刻掩模的反射光谱.通过拟合计算结果,得到了峰值反射率、带宽和中心波长与粗糙度的函数关系.根据光刻系统对照明均匀性的要求,讨论了在相同粗糙度变化范围内,分别由峰值反射率、带宽和中心波长引起的照明误差.结果表明,粗糙度对极紫外投影光刻掩模的峰值反射率影响最大.当掩模粗糙度为0.85±0.04nm时,峰值反射率将产生±0.9% 的波动,并由此产生±1.5% 的照明误差.为保证由峰值反射率导致的照明误差小于±1%,极紫外投影光刻掩模的粗糙度必须控制在±0.025nm以内.

关键词：极紫外投影光刻、掩模、粗糙度、反射光谱、多层膜

所属期刊栏目：32

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家重点实验室基金

在线出版日期：2005-11-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：80-83