离子束溅射淀积光学薄膜的膜厚均匀性实验

摘要：

介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法.研究了修正板技术,根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均匀性修正.分别研究了靶摆动和不摆动的情况下,淀积薄膜的均匀性修正.实验结果表明,修正后的均匀性结果优于1%,能满足实际应用的要求;靶摆动修正的均匀性结果优于修正板技术.

关键词：离子束溅射、Ta205薄膜、膜厚均匀性、修正板

所属期刊栏目：31

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划

在线出版日期：2005-03-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：67-69,72