成像干涉光刻技术及其频域分析

摘要：

传统光学光刻技术(OL)由于其固有的限制,虽然可对任意图形成像,但分辨力较低.无掩模激光干涉光刻技术(IL)的分辨力可达λ/4,却局限于周期图形.成像干涉光刻技术(IIL)结合了二者的优点,用同一个系统分次传递物体不同的空间频率,能更有效地传递物体的信息,以高分辨力对任意图形成像.初步模拟研究表明,在同样的曝光波长和数值孔径下,对同样特征尺寸的掩模图形,IIL得到的结果好于OL.在CD=150nm时,IIL相对于OL把分辨力提高了1.5倍多.

关键词：成像干涉光刻、空间频率、频域分析

所属期刊栏目：31

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金60276043

在线出版日期：2004-11-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：24-27