衍射光学元件灰度掩模板激光制作系统研究

摘要：

根据灰度掩模的制作理论,提出了由PP8000胶片输出仪、远心成像透镜组、平行准直He-Cd激光器构成的精缩投影曝光灰度掩模制作系统.通过灰度掩模平面不同位置处提供可变的透过率,经一次光刻后得到所需的衍射光学元件.该系统不仅可采用黑白胶片制作高分辨率灰度掩模板,还可根据彩色灰度等效理论,利用彩色等效胶片实现256灰度级的扩展细分,以进一步提高灰度掩模板制作的分辨率.对于16台阶灰度掩模,其分辨率可以从0～255扩展到0～1280灰度级.利用该系统给出了二元光栅精缩后的感光图片.

关键词：衍射光学元件、灰度掩模、激光曝光、激光光刻系统

所属期刊栏目：31

分类号：TN256(光电子技术、激光技术)

资助基金：江西省自然科学基金

在线出版日期：2004-11-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：21-23,27