10.3969/j.issn.1003-501X.2004.08.004
一种新型微变形镜键合技术
对一种新型可变形反射镜加工中的硅-玻璃阳极键合工艺进行了研究.设计了一种通过导线将压焊点引至键合区的特殊结构,使得键合过程中台柱与驱动电极保持等电势,从而有效避免了电极和结构之间的相互作用所引入的缺陷,使得最终获得的驱动电极的有效面积接近100%.针对键合前后气体体积收缩导致的镜面凹陷问题,提出在玻璃上加工出贯穿器件的浅槽结构.实验结果表明, 在380℃,1atm的环境下施加-1000V电压进行阳极键合时,当浅槽深度大于200nm时,将获得较好的镜面质量.
变形镜、键合、静电力
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TN256(光电子技术、激光技术)
2004-09-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
12-14,22