电寻址空间光调制器制作灰度掩模技术的研究

摘要：

介绍了制作微光学元件灰度掩模的两种方案,它们分别使用TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)和DMD(数字微镜器件)两种电寻址空间光调制器,采用并行直写和实时掩模技术,提高了灰度掩模制作的速度和灵活性.刷新率的变化和黑栅衍射效应将导致衍射效率下降,使得曝光深度误差增加.前者可延长曝光时间来消除,后者可通过高填充因子和放大滤波电路予以有效抑制.与LCD掩模相比,用DMD掩模制作的闪耀光栅的衍射效率提高了10%以上.

关键词：灰度掩模、空间光调制器、衍射效率、微光学元件

所属期刊栏目：31

分类号：TN256(光电子技术、激光技术)

资助基金：江西省测试技术与控制工程研究中心资助项目KG200104006

在线出版日期：2004-08-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：46-49,64