改善MEMS闪耀光栅衍射效率的研究

摘要：

研究了在硅材料上利用MEMS (Micro-Electro-Mechanical System)的各向异性腐蚀技术制备闪耀光栅.采用氧化削尖工艺去除光栅制备过程中掩膜在闪耀面上留下的平台,得到一个连续的闪耀面;同时对闪耀面进行表面抛光,改善闪耀面的粗糙度,减小对入射光的散射.理论分析和实验测试证明,该工艺方法能够将MEMS闪耀光栅的衍射效率提高10%左右.

关键词：闪耀光栅、各向异性腐蚀、表面抛光、氧化削尖

所属期刊栏目：31

分类号：O436.1(光学)

资助基金：国家重点实验室基金51485020101ZK3401;上海市科委资助项目B－27

在线出版日期：2004-07-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：24-27,37