10.3969/j.issn.1003-501X.2004.03.012
离子束溅射沉积Ta2O5光学薄膜的实验研究
根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta2O5薄膜光学特性的影响.结果表明,在薄膜生长的过程中,由于氩离子的轰击作用,薄膜中的氧原子被优先溅射出来,造成了薄膜化学剂量比失调、吸收增加.但是,通过优化辅助离子源中氧气的比例,可获得合理化学剂量比、低损耗的Ta2O5薄膜.
离子束溅射、光学薄膜、离子辅助沉积、光学特性
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O484.4(固体物理学)
国家高技术研究发展计划863计划
2004-06-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
41-43,55