原子光刻用超高真空蒸发设备的设计和建立

摘要：

原子光刻是原子光学在微细加工技术领域的新应用.在对各种材料和真空泵性能综合考虑的基础上,设计并建立了一台用于原子光刻的超高真空蒸发设备.主要设计参数为:极限真空度和工作真空度分别为2.0×10-6 Pa 和1.0×10-5 Pa,原子源温度在300～1850℃范围内连续可调.初步运行结果表明极限真空度优于设计参数,温度连续可调.

关键词：原子光刻、真空蒸发、系统设计

所属期刊栏目：31

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：中国科学院知识创新工程项目A2K0009;国家重点实验室基金

在线出版日期：2004-03-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：5-8