连续面形微光学元件的深刻蚀工艺

摘要：

利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀技术,在石英上刻蚀深连续面形微光学元件.分析了影响深刻蚀工艺的烘焙条件、气体组分、自偏压和刻蚀温度等主要工艺参数,并对影响深刻蚀稳定性、均匀性、刻蚀污染与损伤等因素进行了探讨.通过实验,在石英上制作出深达55微米的浮雕微柱透镜,其面形峰值误差小于3%.

关键词：微光学元件、深刻蚀、等离子刻蚀、连续面形

所属期刊栏目：30

分类号：TN256(光电子技术、激光技术)

资助基金：中国科学院知识创新工程项目;国防预研基金

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：13-16