宽束离子源的均匀性分析

摘要：

在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中,离子源是其中最关键的单元技术之一.通过测试宽束离子源束流密度的空间分布,研究了影响离子束均匀性分布的两个主要因素:加速电压和E/B.结果表明,随着加速电压的增加,离子束束流密度的分布趋向均匀;而E/B对离子束均匀性的影响不大.

关键词：离子束溅射、离子源、均匀性、光学薄膜

所属期刊栏目：29

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：59-61