10.3969/j.issn.1003-501X.2001.06.007
离子束旋转刻蚀工艺误差对均匀照明的影响
介绍一种离子束旋转刻蚀工艺,该工艺可用于制作真正意义上连续位相分布的衍射光学元件.对工艺系统中离子束不均匀度和基片与掩模板中心对准误差对器件性能的影响作了模拟计算,并根据对误差的模拟分析提出了工艺改进方案.
旋转刻蚀、误差分析、离子束刻蚀、衍射光学元件
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TN305.7(半导体技术)
国家高技术研究发展计划863计划
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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