电子束反应蒸发氧化物薄膜的应力特性

摘要：

研究了反应电子束蒸发氧化物光学薄膜在空气中的应力。为了找到能减小多层膜结构内应力的淀积工艺参数,测试了氧化物膜层TiO2,Ta2O5,SiO2,Al2O3,HfO2的应力，发现有些膜层为压应力，一些高折射率膜为张应力。实验表明,热处理可以有效地降低氧化物膜层光学吸收,并改变应力。

关键词：光学薄膜、热处理、应力分析、电子束蒸发

所属期刊栏目：28

分类号：O484.4(固体物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：13-15