相移掩模和光学邻近效应校正光刻技术

摘要：

详细地论述了相移掩模提高光刻分辨力和改善焦深的原理。介绍了光学邻近效应校正方法、改善光刻图形质量的机理及邻近效应校正掩模的一些设计问题。

关键词：相移掩模、光学邻近效应校正、光刻技术

所属期刊栏目：28

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金69776028;中国科学院所长基金;国家重点实验室基金

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1-5