10.3969/j.issn.1001-3539.2011.09.017
恶二唑基聚芴型高分子电致发光材料的合成与光电性能分析
以Grignard反应和脱水缩聚的方法合成了一种含恶二唑基团的聚芴型电致发光材料,通过紫外-可见光谱和电化学法得到该材料的能带隙约为2.99 eV,最低未占有分子轨道能级约为2.95 eV,其有望成为应用在蓝色电致发光器件中的高分子电子传输材料.
聚芴、恶二唑、高分子材料、电致发光、光学能带隙
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O63;TQ4
2010年江苏省科技厅工业支撑项目BE2009171
2012-01-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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