X射线在酞菁氧钛与金界面的剂量增强计算

摘要：

用蒙特卡罗方法计算了金-酞菁氧钛界面的剂量增强系数随能量的变化关系及不同厚度的金和酞菁氧钛对剂量增强系数的影响.结果表明:当X射线能量为10-250 keV时,界面附近酞菁氧钛一侧存在不同程度的剂量增强,剂量增强系数最大值达41.7;在金厚度一定时,随酞菁氧钛厚度减小,剂量增强加大,剂量增强系数随能量增加会出现2个明显的峰值;随着金厚度的增加,相同厚度的酞菁氧钛内部,高能部分的剂量增强均有增加的趋势,而在射线能量相同时,由于射线的平均自由程的限制,金的继续增厚不会使酞菁氧钛侧剂量增强进一步增大.

关键词：有机半导体、界面、X射线、光电效应、剂量增强系数、辐射损伤

所属期刊栏目：27

分类号：O641(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：沈阳工程学院博士点基金资助项目LGBS-B0902

在线出版日期：2012-01-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：358-362