噻吩在Ni(100),Cu(100),Co(100)表面吸附的密度泛函研究

摘要：

采用密度泛函理论对噻吩分子在Ni(100),Cu(100)和Co(100)表面的吸附构型进行了GGA/PBE水平上的计算,通过比较吸附能及各结构参数,预测了各金属的脱硫活性.结果表明:噻吩在Ni表面发生了作用力较强的化学吸附, 噻吩的S-C键有解离趋势;在Cu表面发生的是作用力较弱的物理吸附,噻吩分子构型并未发生较大变化;而噻吩在 Co 表面的吸附作用最强,噻吩的S-C键已经发生解离,和Co原子之间的距离已经达到甚至短于Co-S键的键长.这说明,金属的吸附脱硫活性为Co>Ni>Cu,与实验研究结果一致.此3种金属最稳定的分子吸附位均为hol45位.

关键词：噻吩、吸附、脱硫、密度泛函理论

所属期刊栏目：26

分类号：O641(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目20725620;教育部博士点新教师基金资助项目2009007120008

在线出版日期：2010-07-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：18-22