10.3969/j.issn.1006-8341.2005.04.013
脉冲电弧离子镀中的放电稳定性
脉冲电弧离子镀膜技术是近几十年来新发展的一种镀膜方法,有着广阔的应用前景.然而,在镀膜过程中,出现的拉弧和停弧现象严重影响了脉冲放电的稳定性,进而影响了膜层质量和镀膜效率.为此,采用两级电容充电的引弧方式来减拉弧现象;同时,使用双脉冲触发方法来提高放电的可靠性,减少停弧现象的产生.使用改进后的离子源实验表明,镀膜过程中拉弧和停弧现象明显减少,脉冲放电更为稳定.由此说明,对离子源放电稳定性的改造是有效的,能够很好的满足薄膜镀制的需要.
脉冲电弧、拉弧、停弧、放电稳定性
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O461.2+5(真空电子学(电子物理学))
2006-02-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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