10.3969/j.issn.1001-232X.2012.02.009
氢化物发生-原子荧光光谱法测定Inconel 718合金中痕量硒
本文采用氢化物发生-原子荧光光谱法测定Inconel718合金中痕量硒.对影响其测定的负高压、灯电流、载气流量、屏蔽气流量、载流酸类酸度、硼氢化钾等因素进行了较为详细的研究,优化了测定条件,考察了Inconel718合金主要组成元素和基体元素对硒测定的影响.结果表明,用氟化氨溶液络合,柠檬酸溶液作干扰抑制剂能基本消除基体元素和主要组成元素的干扰.硒浓度在0~100μg/L与荧光强度有良好的线性关系,方法的检出限为0.0083μg/L.对铁镍基高温合金标准样品和Inconel 718合金样品进行9次测定,相对标准偏差为1.6%~3.5%.
氢化物发生-原子荧光光谱法、Inconel 718合金、硒
O65;X13
2012-06-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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