二甲基(五氟苯基)硅烷衍生物的质谱重排反应

摘要：

利用气相色谱质谱联用仪在电子轰击离子源下对20个二甲基(五氟苯基)硅烷衍生物进行分析,发现大部分化合物质谱图上无分子离子峰,少数化合物可观察到较弱的分子离子峰.所有化合物质谱图上都具有较强的”M-CH3”+离子,且在个别化合物的谱图上表现为基峰,该离子来自游离基中心诱导发生的α(C-Si键断裂)裂解.各化合物的谱图上均具有m/z 77和m/z 79的特征离子,在绝大多数化合物的谱图上表现为基峰.对离子进行归属时发现该类离子并不能通过化合物分子内键的直接裂解而得到,推测该类离子是通过进行分子内的骨架重排反应而得到的三配位硅正离子,推断其生成途径为单分子亲核取代反应历程(SN1).进一步对不合氟的二甲基(苯基)硅烷衍生物进行分析,未检出该类重排特征离子,从而印证了对于二甲基(五氟苯基)硅烷衍生物中重排离子生成途径的推测.

关键词：骨架重排、三配位硅正离子、二甲基(五氟苯基)硅烷衍生物、气质联用

所属期刊栏目：36

分类号：O657.63(分析化学)

在线出版日期：2017-05-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：407-411