铜掺杂聚L-酪氨酸修饰电极同时测定尿酸、多巴胺和抗坏血酸
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10.3969/j.issn.1000-0720.2011.12.012

铜掺杂聚L-酪氨酸修饰电极同时测定尿酸、多巴胺和抗坏血酸

引用
用循环伏安法制备铜掺杂聚L-酪氨酸修饰玻碳电极,研究了尿酸、抗坏血酸和多巴胺在修饰电极上的电化学行为,建立了同时测定尿酸、抗坏血酸和多巴胺的新方法.在pH 3.0磷酸盐缓冲溶液中,扫描速率为140 mV/s,多巴胺在修饰电极上产生一对氧化还原峰,峰电位分别为0.502 V、0.370 V,尿酸和抗坏血酸分别产生一氧化峰,峰电位分别为0.653 V和0.253V.尿酸、多巴胺的氧化峰分开达0.151 V,多巴胺和抗坏血酸的氧化峰分开达0.249 V,采用循环伏安法(CV法)和示差脉冲伏安法(DPVs法),用氧化峰可同时测定尿酸、多巴胺和抗坏血酸.CV法和DPVs法同时测定的线性范围分别为:UA:3.00×10-6 ~ 1.00×10-4 mol/L(CV)、3.00×10-7~ 1.00×10 -4mol/L(DPVs); DA:1.00×10-6~ 1.00×10-4 mol/L(CV)、1.00×10-7~1.00×10-5 mol/L、1.00×10-5~1.00×10-4 mol/L( DPVs);AA:3.00×10-5~1.00×10 -3mol/L(CV)、3.00×10-6 ~ 1.00×10 -3mol/L(DPVs).检出限分别为3.0×10-7、1.0×10-、3.0×10-6mol/L (CV)和1.0×10-8、1.0×10-8、1.0×10-7mol/L(DPVs).方法可用于人尿液和血清中尿酸、多巴胺和抗坏血酸的同时测定.

L-酪氨酸、尿酸、多巴胺、抗坏血酸、铜掺杂、化学修饰电极、同时测定

30

O657.1(分析化学)

安徽省高校省级自然科学研究重点项目KJ2008A122、KJ2011A255

2012-03-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

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