Plasma 3000型和Plasma 2000型电感耦合等离子体发射光谱仪测定工业硅中杂质元素含量

摘要：

国家产品标准GB/T2881-2014《工业硅》中规定,检测工业硅中杂质元素采用电感耦合等离子体发射光谱仪测定.本实验参照标准GB/T14849. 4-2014《工业硅化学分析方法第四部分:杂质元素含量测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》测定工业硅中铝、铬、钙、硼、铜、铁、镁、镍、锰、磷、钠、钛的元素含量. 对工业硅样品进行对比测试,检测结果与客户化学法基本一致.

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在线出版日期：2019-08-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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