一种新型汞离子选择薄膜传感器

摘要：

采用脉冲激光沉积技术,在光寻址电位传感器表面上沉积了对二价汞离子敏感的薄膜,制备了一种新型汞离子选择薄膜传感器,靶材成分为Hg-Ag-I-S,基底为p型单晶硅片,金属接触层为Cr/Au.该薄膜传感器在3星期内显示了良好的重复性和稳定性;检出限为 3×10-6 mol/L;响应时间小于2 min, 适用pH范围小于2.对干扰离子和迟滞效应等也进行了研究.该传感器具有测量快速灵活、所需样品少、动态范围宽等特点,因为把电位信号转化为对光激发的交流电流信号进行测量,所以提高了灵敏度.同时也证明了脉冲激光沉积是适合制备薄膜传感器的一种新技术.

关键词：薄膜传感器、光寻址电位传感器、脉冲激光沉积、汞离子敏感

所属期刊栏目：22

分类号：O64;TP2

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2001AA635060

在线出版日期：2005-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：428-431