氩离子刻蚀还原氧化铜的XPS研究

摘要：

利用X射线光电子能谱(XPS)及氩离子刻蚀技术,通过改变氩离子枪的刻蚀模式,原位研究氩离子刻蚀对氧化铜的还原情况.结果发现在极其微弱的氩离子束流轰击下,CuO即被还原,刻蚀初期变化较大,之后达到稳恒状态.对Cu2p峰拟合,同时结合俄歇CuLMM峰变化,判定纯CuO经氩离子刻蚀后最终转变为氧化铜、氧化亚铜及少量单质铜的共存状态.研究结果将对氧化铜深度剖析中化学状态的判断具有重要参考价值.

关键词：氧化铜、氩离子刻蚀、X射线光电子能谱、还原

所属期刊栏目：32

分类号：O657.63;TQ047.9(分析化学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目51072236,21106190;广东省自然科学基金项目105102750100094;佛山市科技计划项目2011BC100023

在线出版日期：2013-07-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：535-540