等离子化学气相沉积硅-硼-氮复合薄膜的组成和结构

摘要：

利用X射线衍射(XRD)和X光电子能谱(XPS)等技术对射频-直流-等离子化学气相沉积(RF-DC-PVCD)在钢基体上Si-B-N复合薄膜的组成和结构进行分析和研究;结果表明,通过给试样基体加一适当的直流负偏压,得到含有显著六方氮化硼(h-BN)、立方氮化硼(c-BN)结晶相的Si-B-N薄膜.

关键词：Si-B-N复合薄膜、负偏压、结构、组成

所属期刊栏目：21

分类号：TB33(工程材料学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：83-85