化学微蚀刻法和微细电镀法制备微流控芯片金属模具工艺对比研究

摘要：

针对化学微蚀刻法和微细电镀法制备微流控芯片金属模具进行了工艺对比研究.采用激光共聚焦显微镜分别检测表征由这两种加工工艺制备所得的模具微结构特征,对其侧壁陡度、尺寸均匀性、粗糙度进行对比分析.结果表明,化学微蚀刻法制备的模具微结构的侧壁呈不规则弧形、尺寸均匀性差,表面粗糙度较大(Rs=3.58 μm).而微细电镀法制备的模具微结构的侧壁则呈规则的梯形、尺寸均匀性好,表面粗糙度较小(Ra=0.65μm).微细电镀法制备的微流控芯片金属模具综合效果比化学微蚀刻好.

关键词：化学微蚀刻、微细电镀、侧壁陡度、微流控芯片模具

所属期刊栏目：27

分类号：TG174(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金重点项目Ul134003、国家自然科学基金青年项目51105080和广东省自然科学基金博士启动项目S2011040003991资助

在线出版日期：2015-06-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：264-268