10.3969/j.issn.1002-6495.2008.06.017
闭合场非平衡磁控溅射镀Cr-C层的耐蚀性研究
利用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在高速钢表面制备Cr-C镀层.采用电化学腐蚀法研究了Cr-C镀层、电镀Cr层及高速钢基体的腐蚀行为.结果表明,在1 mol/L NaCl、1 mol/L HCl及7.5 mol/L NaOH溶液中,闭合场非平衡磁控溅射离子镀制备的Cr-C镀层的耐蚀性优于电镀Cr镀层,并且其Cr含量越高耐腐蚀件越好.
磁控溅射离子镀、Cr-C镀层、耐蚀性
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O64;TG174(物理化学(理论化学)、化学物理学)
国家863计划2005AA33H010;西安理工大学科学研究计划101-210603
2009-02-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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