10.3969/j.issn.1002-6495.2007.03.003
纳米晶Ni-CeO2复合镀层低温渗铬后的氧化行为
利用Ni与CeO2纳米颗粒共电沉积制备了纳米结构的Ni-CeO2复合镀层,Ni平均晶粒尺寸为(56±38)nm;对比研究了该复合镀层与粗晶Ni(平均晶粒尺寸约为30 μm)在700℃扩散渗铬5 h后的渗层结构.结果表明,纳米复合镀层上的渗层厚度和渗入Cr浓度都远高于粗晶Ni;800℃下20 h的恒温氧化实验结果表明,纳米复合镀层上渗铬层的抗氧化性能与粗晶Ni相比显著提高.
低温渗铬、复合镀层、纳米晶、高温氧化
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TG172.82(金属学与热处理)
中国科学院引进海外杰出人才百人计划项目
2007-07-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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