10.3969/j.issn.1002-6495.2001.01.004
MBO缓蚀膜中Cu的价态及成膜机制
用光电子能谱(XPS)、红外光谱(IR)和扫描隧道显微镜(STM),对Cu在含NaCl的2-琉基苯并噁唑(MBO)溶液中处理后,其表面所形成的缓蚀膜进行了研究.缓蚀膜的Cu2p3/2结合能值为932.3 eV,在Cu2p3/2和Cu2p1/2之间没有“卫星峰”存在,且俄歇峰CuLMM的结合能为337.6 eV,表现了典型的一价Cu化合物的特征.该缓蚀膜的红外光谱与的一价Cu的合成化合物的红外谱图相一致.在形成缓蚀膜前后,N1s和S2p的结合能变化显著,表明MBO分子可能通过和N原于与一价铜离子键合的.原位的STM表明,Cl的存在可使MBO在Cu表面形成致密的三维膜.对MBO缓蚀膜的形成机理进行了分析,解释了在MBO缓蚀膜形成过程中Cu腐蚀电位的变化.
Cu、腐蚀、MBO、缓蚀
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TG174.42(金属学与热处理)
国家重点基础研究发展计划973计划G19990650;辽宁省自然科学基金962142
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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