添加B对包渗法制备MoSi2涂层显微组织及静态抗氧化性能的影响

摘要：

采用包渗法在Mo基体表面制备了B强化的MoSi2涂层,研究了涂层的显微结构、元素分布、相组成以及静态高温抗氧化性能.结果表明:涂层与基体之间通过扩散形成牢固的冶金结合,涂层整体厚度为80～120 μm,共由三层组成.涂层中B元素沿晶界扩散富集引起的晶格畸变,使得Si在MoSi2中的扩散系数减小,导致B强化MoSi2涂层中间层厚度相对纯MoSi2涂层中间层厚度减小,但涂层整体厚度增大.经1200℃静态氧化2h后,B强化的MoSi2涂层失重为0.6 mg/cm2,大大小于纯MoSi2涂层失重量(1.3 mg/cm2),表面生成一层致密的SiO2为主体的氧化膜,阻止了涂层的进一步氧化.

关键词：包渗法、MoSi2涂层、B强化、抗氧化性能

所属期刊栏目：22

分类号：TF124.8(冶金技术)

在线出版日期：2012-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：33-37