WO3/g-C3N4复合光催化剂制备及其可见光催化性能

摘要：

将自制层状石墨相氮化碳(g-C3N4)和WO3纳米片均匀混合,经煅烧制备WO3/g-C3N4复合半导体.利用XRD、SEM、TEM、UV-Vis DRS和PL对其进行表征.结果表明,g-C3N4呈现类石墨烯状片层结构,WO3为纳米片状结构,且分散在g-C3N4表面;与WO3复合后,UV-Vis吸收边发生了红移,拓宽了g-C3N4对可见光的响应.以罗丹明B(RhB)为模拟污染物,考察WO3/g-C3N4的光催化降解性能.WO3/g-C3N4质量比为1:5时,表现出最佳的光催化活性,可见光照60 min后,RhB降解率可达到94.9％.光催化剂具有良好的稳定性,重复使用6次后,RhB的降解率依然达到88.9％.光催化机制研究表明,超氧自由基(·O2?)是光催化降解RhB的主要活性物种.

关键词：WO3/g-C3N4;复合半导体;罗丹明B;光催化降解;纳米片

所属期刊栏目：38

分类号：O643.3(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家自然科学基金;合肥学院研究生创新研究项目

在线出版日期：2021-12-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：4265-4272