工艺参数对化学气相沉积ZrC涂层形貌和组分的影响

摘要：

利用ZrCl4-Ar-CH4-H2体系,采用化学气相沉积法(CVD)制备了ZrC涂层.研究了不同基底、沉积温度、先驱体中CH4与ZrCl4浓度比(C/Zr)对涂层形貌、物相和组分的影响规律和作用机制.结果表明,不同基底对该体系沉积的ZrC涂层形貌没有显著影响.沉积温度对ZrC涂层形貌影响较大,当温度从1100℃增加到1350℃时,涂层形貌由片状转变到荔枝状,且涂层中的C含量随温度的升高而增加.先驱体中的C/Zr比对涂层形貌和组分也有重要影响,当C/Zr比从8.5减小到3.5时,涂层由疏松多孔形貌经菜花状向玻璃态形貌演变,且涂层中的C含量随C/Zr比的减小而减少.

关键词：化学气相沉积、碳化锆、涂层、工艺参数、形貌、作用机制

所属期刊栏目：27

分类号：TB332(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金90716023

在线出版日期：2017-01-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：62-67