10.3321/j.issn:1000-3851.2005.02.003
二氧化硅/聚酰亚胺纳米杂化薄膜室温及低温力学性能
利用溶胶-凝胶技术制备了不同SiO2含量的二氧化硅/聚酰亚胺(SiO2/PI)纳米杂化薄膜.采用红外光谱(IR)和扫描电镜(SEM)手段对该体系的分子结构和断裂形貌进行了表征,研究了聚酰亚胺薄膜室温和低温(77 K)力学性能.结果表明:室温和低温(77 K)下,SiO2 /PI杂化薄膜的拉伸强度开始时均随SiO2含量的增加而增加,在含量为3%时达到最大值,低温下杂化薄膜的拉伸强度明显高于室温.室温下,杂化薄膜的断裂伸长率在含量为3%时达到最大值,而低温(77 K)下,薄膜的断裂伸长率的变化没有呈现明显的规律性.
聚酰亚胺、溶胶-凝胶法、力学性能
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TB332(工程材料学)
中国科学院"百人计划";国家高技术研究发展计划(863计划)
2005-06-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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