用衰减全反射红外光谱研究纳米SiO2粒子在复合涂层中的迁移现象
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3321/j.issn:1000-3851.2004.04.011

用衰减全反射红外光谱研究纳米SiO2粒子在复合涂层中的迁移现象

引用
用衰减全反射红外光谱(FTIR-ATR)技术研究了纳米SiO2粒子在紫外光固化复合涂层中的迁移现象,并对影响纳米SiO2粒子在涂层中分布梯度的因素进行了半定量分析.研究结果表明,纳米SiO2粒子在光固化过程中向涂层接触空气的表面迁移,在表面层富集.当纳米SiO2粒子含量较高、分子量较小、接枝率较高,或者在极性较大的基体树脂中时,迁移较快,分布梯度较大.

衰减全反射红外光谱(FTIR-ATR)、纳米SiO2、紫外光固化复合涂层

21

TB332(工程材料学)

上海市科委资助项目02dz11001

2004-09-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

54-57

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

复合材料学报

1000-3851

11-1801/TB

21

2004,21(4)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn