基于金属氧化物功能层的QLED性能优化和研究进展

摘要：

由于金属氧化物具有较好的热稳定性以及对水/氧的敏感性较低,因此被作为最重要的电荷传输材料应用于量子点发光二极管(QLED)器件中.然而,不同金属氧化物的电荷传输能力不同,并且在不同的器件结构中界面能级匹配问题等因素会使得电荷失衡,甚至引发激子猝灭.因此在保证材料稳定性的同时,要得到良好的器件性能就要对其进行界面修饰和优化.本文以金属氧化物作为电荷传输层、电荷注入层以及电荷阻挡层分别进行阐述,通过混入其他材料以及构建合理的器件结构等方面综述了近些年金属氧化物在QLED应用中的发展历程.

关键词：金属氧化物、电荷传输层、电荷注入层、电荷阻挡层、复合界面功能层

所属期刊栏目：44

分类号：TN312.8(半导体技术)

在线出版日期：2023-09-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共12页

页码：1439-1450