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10.37188/CJL.20200223

Pr3+掺杂Ge-Ga-Se-CsI硫卤玻璃性能及光纤制备

引用
采用熔融淬冷法制备了两种浓度的Pr3+掺杂GeSe2-Ga2Se3-CsI(GGC)硫卤玻璃.在2.0μm激光激励下,比较了玻璃片(2 mm)和玻璃柱(6 mm)的荧光发射光谱.用Judd-Ofelt理论计算分析了Pr3+掺杂Ge-Ga-Se-CsI硫卤玻璃的强度参数Ωi(i=2,4,6)和辐射寿命τrad等光谱参数.通过拟合衰变曲线,测得了玻璃的荧光寿命值(0.5%Pr3+:3.08 ms).所制备的光纤具备双包层结构,通过截断法得到光纤在7.6μm处的最低损耗为2.27 dB/cm.

硫卤玻璃、Judd-Ofelt理论、辐射寿命、光纤损耗

41

TN29(光电子技术、激光技术)

国家自然科学基金;浙江省自然科学基金

2020-11-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共8页

1343-1350

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1000-7032

22-1116/O4

41

2020,41(11)

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