直流磁控溅射生长(002)择优取向AlN薄膜及其光致发光

摘要：

采用直流反应磁控溅射法,在玻璃衬底上生长了沿(002)择优取向的AlN薄膜,用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对AlN薄膜结构和表面形貌进行表征,并测量了AlN薄膜在405 nm激光激发下的光致发光(PL)光谱.结果表明,在不同氮气含量条件下生长的AlN薄膜均呈(002)择优取向,薄膜表面呈小颗粒密堆积排列,颗粒尺寸在20 nm左右.不同氮气含量条件下生长的AlN薄膜在550 nm处均有较强的由于VAl能级向价带跃迁引起的缺陷能级发光峰;AlN薄膜在589,614,654 nm处也有较弱的缺陷能级发光峰,随着氮气含量增大,缺陷能级发光峰越来越明显,产生原因分别为ON-ON缺陷对向VAl-2ON产生的复合缺陷能级的跃迁、导带向与氧有关的杂质能级(IO)间的跃迁以及VAl-ON深能级向价带的跃迁.

关键词：磁控溅射、择优取向、光致发光、缺陷发光

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分类号：O471.4;O482.31(半导体物理学)

资助基金：沈阳市科技局应用基础研究专项F16-205-1-16;辽宁省科技厅自然科学基金201602647

在线出版日期：2019-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：719-724